Le dépôt s'effectue par polymérisation à l'aide d'une méthode d'enduction assistée par vide que l'on appelle dépôt chimique en phase vapeur (en anglais Chemical Vapour Deposition - CVD). Le « dimère » (p-cyclophane solide [2,2]), présent sous forme ressemblant à de la poudre, est tout d'abord sublimé dans l'évaporateur.

La rupture thermique du « dimère gazeux » relativement inerte s'effectue à l'aide d'un tube de pyrolyse à 650° environ et forme des monomères extrêmement réactifs. La pression du processus dépend du type de dimère et d'installation utilisé et se situe entre 0,02 et 0,1 mbar environ. Par diffusion, les monomères réactifs accèdent à la chambre à vide suivante, dans laquelle le produit à revêtir est placé sur un bâti rotatif.

Les monomères réactifs polymérisent de préférence en fines couches de poly(para-xylylène) ou parylène sur des surfaces froides. Vu que tous les monomères ne polymérisent pas dans la chambre, il faut éviter que la pompe à vide ne soit consécutivement revêtue. C'est la raison pour laquelle il s'avère d'intégrer un piège cryogénique dans le système. Pendant la durée du processus, le piège cryogénique  est simplement rempli d'azote liquide, de sorte que les monomères restants polymérisent dans le piège cryogénique et que l'aptitude au fonctionnement de la pompe reste assuré.